Делегация УрФУ приняла участие в работе саммита Ассоциации технических университетов России и Китая

В КНР, в г. Циндао, прошел саммит Ассоциации технических университетов России и Китая (АТУРК). В числе двадцати делегаций от вузов Российской Федерации в мероприятии приняли участие представители Уральского федерального университета. Ключевой задачей данного научно-промышленного саммита стало обсуждение перспектив сотрудничества и взаимообмена технологиями, а также создание единой платформы для продвижения совместных российско-китайских технологических проектов.

Китайские промышленные производители и представители вузов неоднократно выражали свою заинтересованность в партнерстве с ведущими университетами Урала. В ходе мероприятия были сделаны конкретные шаги в данном направлении. С. Ярошенко, руководитель центра УрФУ по связям с предприятиями, рассказал о том, чего удалось достичь. Он заметил, что сейчас проводится работа по определению самых перспективных направлений партнерства. В ходе переговоров стало очевидным, что китайцам очень интересны потенциальные совместные проекты.

Приоритетными были названы следующие векторы сотрудничества: разработки в сфере создания биоразлагаемых полимерных смесей, безсвинцовых продуктов, магнитотвердых материалов, дозиметрических систем, ЭПР-спектрометров. Таким образом, акценты дальнейшего партнерства поставлены на сферу приборостроения и материаловедения. Специалисты УрФУ проводят масштабные исследования мирового значения в обеих этих областях.

Участники саммита имели возможность ознакомиться с проектами сооружения индустриального парка Циндао. Целью создание данного объекта является содействие международному научно-техническому партнерству и осуществлению трансферов достижений между разными государствами. В частности, данный парк станет платформой для разработки совместных российско-китайских индустриальных проектов. Принципы успешного сотрудничества с Китаем в будущем можно взять за основу при создании моделей партнерских взаимоотношений с другими государствами группы БРИКС.

Источник

Добавить комментарий

Ваш e-mail не будет опубликован. Обязательные поля помечены *